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Résumé de la communication
La nanocalorimétrie permet de mesurer, en fonction de la température, la chaleur impliquée dans des processus ou réactions à l’échelle du nanomètre. L’échantillon est déposé sur une membrane de nitrure de silicium amorphe de 250 nm d’épaisseur sur laquelle une bande métallique de quelques dizaines de nanomètres est utilisée pour chauffer l’échantillon par effet Joule. Cette technique s’est avérée être un outil puissant de caractérisation de plusieurs phénomènes qui manifestent un comportement différent à l’échelle nanométrique. Parmi ces phénomènes on compte la décroissance du point fusion, la formation de siliciures métalliques ou encore l’évolution des défauts induit par implantation ionique à basse énergie. Une limite de cette technique réside dans le fait que l’échantillon est déposé sur une membrane amorphe ce qui restreint le spectre de matériaux pouvant être étudiés aux matériaux amorphes ou polycristallins. Dans cet exposé nous présenterons un tout nouveau dispositif sur lequel a été ajoutée une couche de silicium monocristallin située sur la membrane. Ce dispositif vient alors ouvrir la porte à une toute nouvelle gamme de phénomènes impliquant une surface pure et ordonnée comme la formation de couche organique auto-assemblée, la transition 2D à 3D de couche hétéroépitaxiale etc... Nous montrerons quelques exemples de mesures réalisées à ce jour qui mettent en évidence les avantages de ce dispositif.
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