Communication

Dommages à l’ADN maintenu sous atmosphère d’azote ou d’oxygène, induits par des rayons-X et des électrons de basses énergies

Elahe Alizadeh

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Elahe Alizadeh

Résumé de la communication

Lorsque les rayonnements ionisants pénètrent le milieu biologique, ils génèrent une grande quantité d’électrons secondaires (~4×10[SUP 4]/MeV) dont l’énergie la plus probable est au-dessous de 10 eV. Ainsi, plusieurs études récentes ont porté sur la fragmentation et la modification de l’ADN soumis à l’impact d’électrons de basse énergie (EBE). Cependant, il est maintenant bien établi que les processus induits par les EBE sur les biomolécules dépendent fortement de leur environnement. Il est donc important d’étudier les interactions EBE-ADN dans des conditions proches du milieu cellulaire plutôt que sous vide comme c’est habituellement le cas. Dans le présent travail, des échantillons lyophilisés d’ADN plasmidique sont déposés sur des substrats de tantale ou de verre. Ils sont ensuite exposés à un faisceau de rayons-X de 1500 eV en présence d’une atmosphère de O[SUB 2] ou de N[SUB 2]. Les dommages produits à l’ADN déposé sur le verre sont attribués à l’absorption directe de l’énergie des rayons-X tandis que ceux produits à l’ADN déposé sur le tantale proviennent de l’absorption des rayons-X mais aussi des photoélectrons de basse énergie (<30 eV) émis par le substrat métallique. Les dommages induits par les EBE sont déduits de la comparaison entre les deux différents substrats. Nous montrons entre autre qu’en présence d’oxygène, les EBE sont plus efficaces que les rayons-X pour produire des cassures de brins. Ils produisent donc plus de dommage à l’ADN par unité d’énergie déposée.