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Dommages au complexe cis-platine-ADN induits par des électrons de basse énergie et par des électrons hydratés

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Behnaz Behmand

Résumé de la communication

Le cis-platine PtCl[SUB 2](NH[SUB 3])[SUB 2] est un agent chimiothérapeutique qui se lie chimiquement aux bases de l’ADN, surtout à la guanine et il est utilisé souvent dans le traitement des cancers en combinaison avec la radiothérapie. Nos expériences récentes sur le cis-platine ont reportés une augmentation, par rapport à l’ADN pur, des dommages aux brins lorsqu’il est exposé à un faisceau d’électrons monoénergétique (0-60 keV). La présence d’un cis-platine par 400 pairs de bases en moyenne augmente d’un facteur 4.4 et 3.5 la formation de cassures de simple et de double brin, respectivement, dans un plasmide par des électrons de basse énergie (1-10 eV). Cette radio-sensibilisation de l’ADN par le cis-platine suggère que les traitements simultanés de chimiothérapie et de radiothérapie sont avantageux dans le contrôle de tumeurs cancéreuses. La cinématique de la réaction entre le cis-platine et des oligonucléotides est étudiée avec la technique de chromatographie en phase liquide à haut performance (CLHP) qui permet de séparer l’oligonucléotide original et ceux qui sont modifiés par un ou deux lien avec le cis-platine. Ensuite, les échantillons de cis-platine-oligonucléotide à simple ou double brin sont marqués au [SUP 32]P et sont soit exposés à des électrons hydratés ou bien lyophilisés et irradiés par des électrons de basse énergie. Les dommages sont finalement évalués avec un gel électrophorèse. Les premiers résultats démontrent que les électrons peuvent aussi briser les liens entre le cis-platine et l’ADN.

Contexte

section icon Date : 12 mai 2011
host icon Hôte : Université de Sherbrooke, Université Bishop’s

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