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Application de la projection plasma de suspension aux dépôts d'hydroxyapatite

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Etienne Bouyer

Résumé du colloque

L'hydroxyapatite [HA, Ca10(PO4)6(OH)2] a été identifié comme étant un excellent substitut osseux. L'HA est d'ores et déjà utilisé dans la fabrication des prothèses articulaires ainsi qu'en chirurgie de reconstruction maxillo-faciale comme matériau de comblement osseux. Cependant, l'HA faisant partie de la classe des biocéramiques dites bioactives en interface est tout d'abord une céramique et possède donc les propriétés intrinsèques de celle-ci à savoir la fragilité mécanique. Par conséquent, il est d'usage de mettre en forme l'HA à l'état de dépôt poreux plutôt que de pièce de forme dans le but de satisfaire aux exigences requises pour les applications auxquelles il est dédié. A l'heure actuelle, la méthode qui remporte le plus de succès est la projection par plasma thermique qui permet de réaliser des revêtements de biocéramiques poreux. Dans le cadre de ce travail, nous avons développé un nouveau procédé de projection plasma dénommé PPS, pour Projection Plasma de Suspension, qui est caractérisé par l'emploi d'une suspension comme matériau à injecter dans le plasma. Appliqué aux plasmas générés par couplage inductif haute fréquence (h.f.), le procédé PPS offre divers avantages comme la pureté des matériaux produits due d'une part à la limitation des étapes potentiellement contaminantes et d'autre part aux caractéristiques propres des plasmas h.f.. Le travail présenté consiste en l'étude de l'influence de paramètres de projection plasma comme la nature des gaz plasmagènes (Ar/O2, Ar/H2, Ar/He/O2) et la pression de travail dans le réacteur de déposition sur les propriétés des dépôts produits. Les revêtements obtenus sont caractérisés par différentes méthodes : diffraction des rayons X, microscopie électronique à balayage et en transmission. Les résultats de cette étude montrent que le procédé PPS permet d'obtenir des dépôts poreux d'HA, orientés préférentiellement suivant les plans de la famille {00l}. Le taux de décomposition de l'HA en a-TCP et en chaux dépend de la nature des gaz plasmagènes utilisés par le biais de leur enthalpie et de leur pouvoir réducteur ou oxydant.

Contexte

news icon Thème du colloque :
Génie chimique et procédés
host icon Hôte : Université McGill

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Titre du colloque :

Génie chimique et procédés

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