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Caractérisation de l'émission UV de plasma "froid"

Alexandru Fozza
Alexander Kruse
Michel R. Wertheimer
AF

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Alexandru Fozza

Résumé du colloque

Les plasmas "froids" à basse pression (10⁻² - 10 Torr) sont utilisés depuis longtemps dans des procédés de fabrication de microcircuits électroniques et pour la modification de surfaces polymériques. Consistant en un mélange complexe de particules chargées et neutres; cependant, ils sont aussi une source importante de radiation électromagnétique couvrant une large bande spectrale. Les radiations de faibles longueurs d'onde, particulièrement dans le domaine UV-VOU, sont suffisamment énergiques pour causer des réactions photochimiques. Nous avons mis au point un système monochromatique permettant de détecter l'énergie électromagnétique émise dans la gamme UV-VIS (15 nm < λ < 900 nm), système qui peut aussi être adapté pour le traitement d'échantillons polymériques. La partie spectrométrique comporte deux spectrographes à réseau, dont un sous vide pour 15 nm < λ < 350 nm et un deuxième, muni d'un détecteur, multi canal (barrette de 700 photodiodes) pour 350 nm < λ < 900 nm. La plupart des gaz étudiés présentent une émission intense dans la région VUV-UV, émission qui dépend de la pression du gaz, de l'énergie micro-ondes, ainsi des paramètres intrinsèques du plasma (la densité et la distribution des énergies des électrons). Les résultats obtenus permettent d'estimer l'émission VUV provenant de plasmas technologiques pour fins de traitements photochimiques d'efficacités optimales.

Contexte

Section :
Physique
news icon Thème du colloque :
Physique
host icon Hôte : Université du Québec à Chicoutimi

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Titre du colloque :

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