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Copolymères de diesters d'acide fumarique pour la photolithographie et autres applications

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Graham D. Darling

Résumé du colloque

Le di-(t-butyl)fumurate fut polymérisé avec le styrène par méthode radicalaire en solution, et le copolymère produit fut isolé, puis caractérisé par spectroscopies IR, UV-vis, et RMN, et par analyses thermogravimétrique et calorimétrique. Il fut ensuite rédissoût avec un composé (tel sulfonium) capable de catalyser la polymérisation sous l'influence de lumière ultraviolette ou autres radiations. Le mélange fut ensuite étalé sur une surface plane, puis séché pour former une couche mince photosensible. Dans les régions de cette couche exposées à l'UV (ex. avec la projection d'une image d'un circuit microélectronique) avec décalage, chaque unité diacide photogénéré est capable de catalyser la thermolyse de plusieurs esters t-butyl en isobutylène volatile et groupes carboxyliques. Par raison de cette transformation avec "amplification chimique" dans le volume du matériau, sa solubilité envers liquides développeurs (aqueux-basique vs organique-apolaire) devient renversée, permettant la révélation d'une image en relief - très utile pour procédés courants de "résiste" pour fabrication de microélectronique. En plus, le changement de polarité de la surface permet l'adsorption différentielle de teintures fluorescentes ou d'autres molécules organiques ou biochimiques, ou de sels inorganiques, pour former des images fonctionnelles en surface, d'utilité possible pour les technologies de photonique, microanalytique, et autres.

Contexte

host icon Hôte : Université du Québec à Montréal

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