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Résumé du colloque
Lorsqu'on utilise les sources de plasma à décharges HF dans des applications comme la technologie des lasers ou la plasmochimie, il est important d'optimiser le fonctionnement de ces sources. Une telle optimisation exige la connaissance de la densité et de la température électronique. Dans le plasma, les variations de ces paramètres sont fonction de divers paramètres contrôlant la décharge. La présente communication fait le point sur les grandeurs en jeu pour un plasma d'argon à haute puissance. La méthode utilisée pour ces mesures est celle de la sonde de Langmuir. Dans un certain nombre de configurations expérimentales, les propriétés habituelles à la fois des influences des fréquences et des puissances incidentes sur les paramètres électroniques ont été mesurées. Le plasma étudié a été réalisé à l'aide d'une chambre hyperfréquence fabriquée au laboratoire d'hyperfréquences de l'École Polytechnique. La présente communication se veut une étude de fond de la température électronique et de la densité électronique en fonction de l'argon. La puissance HF fournie par la source a été mesurée et l'énergie absorbée par le plasma, pour diverses valeurs de pression du gaz. Les résultats expérimentaux sont présentés pour des fréquences et des puissances incidentes allant jusqu'à 400 Watts et des pressions de l'argon de 0.05 à 7.5 torrs.
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