pen icon Colloque
quote

Dépôt de couches minces à base de carbone par plasma micro-ondes

Andranik Sarkissian
Claude Cote
Akira Hirose
A. Sing
C. Xiao
Q. Yang
AS

Membre a labase

Andranik Sarkissian

Résumé du colloque

Les couches minces à base de carbone produites avec l'aide de plasmas se présentent sous une grande gamme de formes aux propriétés physiques, chimiques, électriques et optiques variées. Les dépôts de diamant et de nanotubes de carbone (CNT) sont des exemples de films à base de carbone d'un grand intérêt pour divers champs d'activité technologique. Les caractéristiques de la couche déposée sont déterminées par la structure des liens entres les atomes introduits dans la structure du film. Les propriétés du film sont affectées par les paramètres du plasma tels sa densité et sa température, la nature des gaz plasma, la pression d'opération, et par les caractéristiques du substrat tels sa température et sa morphologie de surface, et le type de matériel utilisé. Nous allons présenter des travaux réalisés conjointement par Plasmionique et l'Université de la Saskatchewan pour la conception et l'opération d'un système de déposition de vapeurs chimiques assistée par plasma micro-ondes. Le système a été utilisé pour la déposition de films à base de carbone, tels le diamant et les CNTs, sur différents substrats et dans des conditions variées. Le réacteur plasma, spécifiquement conçu pour ce projet, permet une grande flexibilité dans le choix des conditions expérimentales. Les résultats préliminaires sur la déposition de films diamantaires et leur caractérisation à l'UofS pour différentes concentrations de méthane mixé à de l'hydrogène seront présentés.

Contexte

Section :
Science et ingénierie des plasmas
news icon Thème du colloque :
Science et ingénierie des plasmas
host icon Hôte : Université du Québec à Montréal

Découvrez d'autres communications scientifiques

news icon

Titre du colloque :

Science et ingénierie des plasmas
Élaboration de substrats SOI à l'aide d'ions hydrogène et deutérium de faible énergie (5 keV)
Nicholas Desrosiers
Structures dans les plasmas ionosphériques
Abdelhaq M. Hamza
Implantation d'ions magnétiques Mn dans un semi-conducteur Si pour applications en spintronique
Martin Bolduc
Voir tous les contenus de ce colloque

Autres communications du même congressiste :

news icon

Thème du colloque :

Science et ingénierie des plasmas
Dépôt de couches minces à base de carbone par plasma micro-ondes
Andranik Sarkissian
Procédés plasma pour améliorer l'adhésion de matériaux en vue d'applications biomédicales
Andranik Sarkissian
Technologie plasma : défis et opportunités pour l'industrie textile
Andranik Sarkissian