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Développement de nouveaux polymères pour la photolithographie dans l'UV lointain

Héloïse Thérien-Aubin
Julian Zhu
HT

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Héloïse Thérien-Aubin

Résumé de la communication

En microphotolithographie, pour réduire la taille des circuits imprimés ou pour augmenter leur capacité de stockage, il faut nécessairement augmenter le pouvoir de résolution de la technique de lithographie. L’augmentation du pouvoir de résolution est possible avec l’utilisation de sources lasers de longueur d’onde inférieure (193 nm ou 157 nm) à celle couramment utilisée (248 nm). Cependant, l’utilisation de telles sources lasers est incompatible avec les résines photosensibles qui entrent actuellement dans la composition des circuits imprimés. Il faut donc concevoir et caractériser de nouveaux polymères qui répondent aux critères exigés pour la microlithographie i.e. la transparence à la longueur d’onde de travail, la résistance au gravage et une bonne adhésion au substrat. Les familles structurales des adamantyles, des norbornènes ou encore des stéroïdes donnent des molécules bien adaptées pour ce type d’applications. Leur squelette polycyclique leur confère la rigidité souhaitée pour résister à la gravure et l’absence de doubles liens carbone-carbone les rendent transparent aux longueurs d’onde de travail. Pour notre part nous avons opté pour des polymères constitués de dérivés de l’acide cholique. L’acide cholique possède le squelette d’un stéroïde et la présence de groupements hydroxyles constitue en plus un atout pour l’adhésion au substrat. Un autre type de polymères étudier consiste en des polymères obtenu par ouverture de cycle de dérivés de la norbornène.

Contexte

Section :
Chimies physique, inorganique et des surfaces
news icon Domaine de la communication :
Chimies physique, inorganique et des surfaces
host icon Hôte : Université du Québec à Rimouski

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Thème du communication :

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