Colloque

Dissociation des acides à la surface des glaces

Patrick Marchand

Patrick Ayotte

Sylvain Plessis

Membre a labase

Patrick Marchand

Résumé de la communication

Les acides, halogénés (HCl, HBr, HF) ou autres (HNO[SUB 3]), jouent un rôle primordial dans la chimie atmosphérique des régions couverte de neiges (antarctique, arctique). La nature de l’interactions entre ces acides et la surfaces des glaces continue d’être débattu tant qu’à savoir si l’acide est dissocié ou non après l’adsorption sur la glace ou sur la couche semi liquide. Nous utiliserons donc des techniques de faisceaux moléculaire et spectroscopique pour étudier l’adsorption et la dissolution des acides dans la glace amorphe. Tandis que certaines évidences calculatoire et expérimentale sur l’interface liquide gaz montre l’acide adsorbé de façon moléculaire, nous avons observé qu’il y aurait plutôt dissociation ionique à la surface des glaces aux températures cryogéniques. Cette dissociation aurait été observée pour des acides aussi faibles que le HF. En utilisant un simple model de Fresnel pour décrire la spectroscopie des milieux stratifiés, nous allons utiliser les constantes optiques obtenues des mélanges binaires amorphes à différentes fractions molaires pour reconstruire les spectres d’adsorption. Ces résultats nous montre que, contrairement à la phase liquide, les acides nitriques, chlorhydrique et fluorhydrique, lorsque déposés à une température très basse, se dissolve dans les couches supérieurs du film de glace pour créer une phase intermédiaire ou la dissociation se produit.

Résumé du colloque

Le professeur Patrick Soukiassian (Université de Paris-Sud/Orsay; CEA Saclay) a déjà accepté de présenter une conférence plénière sur le sujet des surfaces et sur la thématique de recherche des matériaux qui donnera le coup d’envoi au colloque. Expert de réputation internationale des processus de surfaces du carbure de silicium, il est le détenteur du prix prestigieux de « nanoscience » de 2007 par l’ICFSI.

Contexte

Section :

Processus chimiques et physiques associés aux surfaces, interfaces et nanostructures

Thème du colloque :

Processus chimiques et physiques associés aux surfaces, interfaces et nanostructures

Responsables :

Daniel Bélanger Richard Martel Peter McBreen Mario Leclrec Carlos Silva

Hôte : Institut national de la recherche scientifique

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