Colloque

Effet de la tension et de la fréquence de polarisation RF sur la vitesse de gravure du polyimide

Fouad Bounasri

Michel Moisan

Gaston Sauvé

Membre a labase

Fouad Bounasri

Résumé du colloque

Les traitements de surfaces par plasma font désormais partie intégrante du paysage industriel, et les applications de cette technique ne se comptent plus. Néanmoins, les mécanismes physico-chimiques qui régissent l'interaction plasma-surface sont complexes et jusqu'à présent mal connus. Dans ce cadre, nous avons montré que l'effet de la tension de polarisation appliquée à un substrat de Si recouvert de polyimide se manifeste par deux régimes de gravure: (I) gravure chimique et (II) gravure chimique induite. De plus, en faisant varier la fréquence de polarisation, nous avons pu mettre en évidence deux situations nouvelles: dans le cas d'une gravure s'effectuant via un plasma d'argon (gaz inerte), la vitesse de gravure augmente quand la fréquence de polarisation devient inférieure à la fréquence plasma des ions; par contre, dans le cas de la gravure par un plasma réactif (CF_4/O_2), la vitesse de gravure ne dépend plus de la fréquence de polarisation. Les analyses de la surface obtenue par XPS et l'effet du bombardement ionique ont permis de confirmer l'existence de nature entre les deux régimes (I) et (II).

Contexte

Section :

Physique

Thème du colloque :

Physique

Hôte : Université de Montréal

Découvrez d'autres communications scientifiques

Dans le même colloque
Du même congressiste

Titre du colloque :

Physique

Étude des collisions moléculaires hydrogène-azote et hydrogène-oxygène à des énergies de quelques M…

Jacinthe Plante

Propriétés thermomagnétiques du YBa2Cu3O7+

Yi Wang

Préparation de couches minces de Titanate de Barium par dépôt organométallique

Wahib Ousi Benomar

Voir tous les contenus de ce colloque

Autres communications du même congressiste :

Thème du colloque :

Physique

Effet de la tension et de la fréquence de polarisation RF sur la vitesse de gravure du polyimide

Fouad Bounasri

Effet de la tension et de la fréquence de polarisation RF sur la vitesse de gravure du polyimide

Fouad Bounasri

Vitesse de gravure d'un polymide par un plasma O2/CF4: influence de la tension et de la fréquence d…

Fouad Bounasri