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État physicochimique et électrique d'une couche nanométrique Si-Au conçue par bombardement ionique de faible énergie

Fethi Ben Mansour
Denis Roy
Sylvain Massey
Alain Adnot
FB

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Fethi Ben Mansour

Résumé de la communication

Dans ce travail, nous étudions l’état physicochimique d’une couche d’or, de l’ordre de 3 nm, déposée sur une surface de silicium bombardée avec des ions d’argon, Si(b), qui présente des cavités de taille d’environ 5 nm. Nous considérons ensuite les propriétés de la nanocouche d’alliage Au[SUB x]Si[SUB 1-x] que nous obtenons à la suite d’un nouveau bombardement ionique de cette surface. Nos travaux antérieurs, par spectroscopie Auger, ont montré un mode de croissance de l’or sur les surfaces Si(b) semblable à celui obtenu sur les surfaces Si ordonnées. Une étude par XPS et AFM, en cours de réalisation, montrera la disposition des nanostructures d’or par rapport aux cavités de silicium. Et, elle révèlera l’état d’interaction de ces nanostructures avec les atomes de silicium et leurs cavités d’accueil. Dans une seconde étape, nous bombarderons la couche d’or sur silicium dans les mêmes conditions qui ont produit les surfaces Si(b). Ensuite, nous étudierons ses propriétés morphologiques et physicochimiques par les techniques précédentes et déterminerons sa conductivité superficielle. L’or présente, à l’échelle nanométrique, des propriétés catalytiques et de fixation qui dépendent de sa taille et de son environnement. Et il est très utilisé en nanoélectronique pour la réalisation de contacts ohmiques, en particulier. Cette étude permettra de déterminer les propriétés physicochimiques et électriques de l’or à l’état de nanoparticules intégrées à la surface et sous forme d’alliage Au[SUB x]Si[SUB 1-x].

Résumé du colloque

Le professeur Patrick Soukiassian (Université de Paris-Sud/Orsay; CEA Saclay) a déjà accepté de présenter une conférence plénière sur le sujet des surfaces et sur la thématique de recherche des matériaux qui donnera le coup d’envoi au colloque. Expert de réputation internationale des processus de surfaces du carbure de silicium, il est le détenteur du prix prestigieux de « nanoscience » de 2007 par l’ICFSI.

Contexte

Section :
Processus chimiques et physiques associés aux surfaces, interfaces et nanostructures
news icon Thème du colloque :
Processus chimiques et physiques associés aux surfaces, interfaces et nanostructures
manager icon Responsables :
Daniel Bélanger Richard Martel Peter McBreen Mario Leclrec Carlos Silva
host icon Hôte : Institut national de la recherche scientifique

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Titre du colloque :

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