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Étude des réactions du furane sur substrat réactif et non réactif, induites par collisions d'électrons lents

Sylvain Letarte
Denis Roy
Alain Adnot
SL

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Sylvain Letarte

Résumé du colloque

La spectroscopie de photoélectrons induits par rayons X a été utilisée afin d'étudier les dépôts et les réactions du furane condensé sur des substrats réactifs et non réactifs. Les échantillons utilisés sont des monocristaux d'argent (111) et de silicium (111)7x7. Les résultats obtenus montrent qu'il y a adsorption d'une monocouche de furane sur les deux substrats pour deux températures et deux manières différentes. À température ambiante, le furane est chimisorbé selon deux modes particuliers (alpha et beta), confirmant les études faites par MacPherson et al. Seulement une monocouche de furane est physisorbée sur la surface du monocristal d'argent (111) à une température de 190 K. À plus faible température de refroidissement (90 K), une couche suffisante de furane est déposée (physisorbée) sur la surface des deux substrats pour maintenant entreprendre l'étude des réactions induites par le bombardement d'électrons lents. Se basant sur des travaux antérieurs, nous nous attendons à observer un attachement dissociatif électronique (DEA) à 10 eV. Les produits ainsi formés devraient être de natures diverses, mais on y retrouvera principalement des composés d'hydrocarbure CxHy et des composés du cycle hétérogène non saturé.

Contexte

Section :
Chimie physique et des surfaces
news icon Thème du colloque :
Chimie physique et des surfaces
host icon Hôte : Université Laval

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Titre du colloque :

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