Colloque

Étude spectroscopique des propriétés physico-chimiques des couches minces céramiques a-B/C : H/D dans TdeV

M. M. Ennaceur

R. W. Painter

S. Turgeon

Membre a labase

M. M. Ennaceur

Résumé du colloque

Les revêtements des matériaux faisant face au plasma (PFM), à l'aide des couches minces de bore/carbone amorphes (a-B/C:H/D), sont d'un intérêt capital pour les réacteurs de fusion tels que le Tokamak de Varennes (TdeV). Par contre, beaucoup des questions, reliées au processus de déposition de tels films et aux effets des intéractions plasma-surface (PSI) sur leurs propriétés, sont sans réponses satisfaisantes ou complètes. Pour cette raison, nous avons opté pour l'étude et la comparaison des propriètés physico-chimiques des films déposés par PECVD durant le processus de boration dans TdeV. Dans la présente étude, deux séries des dépôts obtenus à des températures de déposition différentes (température ambiante vs 120 C) ont été analysées par XPS, AES, ERD et FTIR. En particulier, la composition chimique (B, C, O) incluant les isotopes d'hydrogène (H et D) ainsi que les différentes liaisons chimiques (B/C/O, B-H et B-D) font l'objet d'analyse et de comparaison. La première hypothèse à confirmer est l'existence ou non d'une transition dans la nature des dépôts, soit des films initialement céramiques amorphes et durs (qu'on peut représenter par a-B:D) vers des films quasi-polymèriques avec un contenu en D élèvé (a-BxDy). Les effets physico-chimiques de certains phénomènes relatifs aux PSI, notament l'érosion physique/chimique (dûe aux flux énergitiques bombardant les surfaces des dépôts), le recyclage et la redéposition des impuretés ainsi que la collection ou 'gettering' d'oxygène sont également considérés.

Contexte

Section :

Génie métallurgique et science des matériaux

Thème du colloque :

Génie métallurgique et science des matériaux

Hôte : Université McGill

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Titre du colloque :

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