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Étude spectroscopique des propriétés physico-chimiques des couches minces céramiques (a-B/C : H/D) déposées et exposées au plasma dans TdeV

M. Mouldi Ennaceur
Bernard Terreault
Edward Sacher
MM

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M. Mouldi Ennaceur

Résumé du colloque

Les revêtements des matériaux faisant face au plasma (PFM), par des couches minces de bore/carbone amorphes hydrogénées (a-B/C:H/D), sont d'un intérêt capital pour les réacteurs de fusion tels que le Tokamak de Varennes (TdeV). Des nombreuses questions reliées au processus de déposition de tels films et aux effets des interactions plasma-surface (PSIs) sur leurs propriétés sont en cours d'étude. Pour cette raison, nous avons opté pour l'étude et la comparaison des propriétés physico-chimiques des films a-B/C:H/D durant les deux étapes principales : (i) l'étape de la déposition (par PECVD), usuellement nommée boration, et (ii) après l'exposition de ces dépôts au plasma dans le SOL de TdeV. Dans cet exposé, on présente le bilan des résultats relatifs à certaines propriétés physico-chimiques notamment la composition et la nature des liens chimiques dans de telles céramiques (B/C/O, B-H et B-D) ainsi que les différents états d'oxydation du bore. Notre étude est basée sur des mesures spectroscopiques ex-situ (XPS,AES,ERD et FTIR) effectuées sur les dépôts tels qu'obtenus à TdeV. Dans une première étape, on compare les propriétés des dépôts en fonction de la nature du gaz précurseur (diborane ou trimethyl-de-bore) et de la température de déposition (120 degrés vs température ambiante). Ensuite, les effets physiques/chimiques des PSIs sur les dépôts feront l'objet d'analyse et de comparaison. L'impact de ces resultats sur la compréhension des mécanismes de déposition/érosion et de la collection d'oxygène dans les Tokamaks est également considéré.

Contexte

Section :
Génie métallurgique et des matériaux
news icon Thème du colloque :
Génie métallurgique et des matériaux
host icon Hôte : Université de Trois-Rivières

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Titre du colloque :

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