Colloque

Génération de plasmas de grand volume par des applicateurs de champs HF basés sur la technologie triplaque

Jérôme Pollak

Michel Moisan

Z. Zakrzewski

Membre a labase

Jérôme Pollak

Résumé du colloque

Les décharges plasmas générées par des applicateurs de champs HF, et s'étendant sur des distances bien supérieures à la longueur d'onde dans le vide, utilisent pour la plupart des ondes de surface comme mode de propagation. Des applicateurs de champs HF dits linéaires peuvent également servir à créer de longues colonnes de plasmas. Les lanceurs d'onde et les applicateurs de champs utilisés jusqu'à aujourd'hui sont construits sur des technologies coaxiales ou guides d'ondes. Paradoxalement, les structures de type ligne microbande ou triplaque ont été très peu utilisées comme applicateur de champ. Nous avons étudié de tels applicateurs. Leurs avantages ont été analysés en comparant les caractéristiques des décharges ainsi induites avec celles engendrées par des ondes de surface. L'extrême souplesse géométrique de ce type d'appareil a permis la conception et la réalisation de décharges dont les paramètres fondamentaux ne sont plus seulement déterminés par les conditions expérimentales (flux, pression, fréquence, etc.), mais peuvent être dans une certaine mesure contrôlés par une modification géométrique adéquate. Ces applicateurs ont permis, entre autres, l'obtention de densités de plasma plus faibles conduisant à des températures de gaz bien inférieures à celles engendrées par des décharges d'ondes de surface et à des volumes de décharge plus importants pour la même puissance absorbée. Cette nouvelle technologie d'applicateur est une alternative aux lanceurs d'ondes de surface et permet d'étendre les champs d'application des plasmas HF.

Contexte

Section :

Science et ingénierie des plasmas

Thème du colloque :

Science et ingénierie des plasmas

Hôte : Université du Québec à Montréal

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Titre du colloque :

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