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Gravure ionique réactive à base de gaz non toxiques: utilisée en technologie des composants électroniques et photoniques

Habib Mani
Romain Maciejko
HM

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Habib Mani

Résumé du colloque

La gravure ionique réactive est l'une des techniques de gravure physico-chimique pouvant offrir à la fois sélectivité et anisotropie. Elle permet, grâce à ces avantages, l'intégration des composants électroniques et photoniques sur la même plaquette, d'obtenir des guides d'onde à profil vertical et un parfait transfert d'un motif du réseau sur les semi-conducteurs. L'utilisation d'éthane comme choix de gaz réactif, non toxique et non corrosif, combiné à l'hydrogène a donné une surface gravée lisse et libre de contaminants car les produits générés par la réaction en présence des composés III-V à base d'InP sont bien stables et très volatils à température ambiante. La vitesse de gravure a été étudiée en détail en fonction de la concentration d'éthane, de la pression de réacteur et de la puissance RF pour réaliser un guide d'onde à profil vertical de largeur 1.6 µm à base d'InGaAsP.

Contexte

Section :
Optique guidée et photonique 3
news icon Thème du colloque :
Optique guidée et photonique 3
host icon Hôte : Université du Québec à Montréal

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Titre du colloque :

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Thème du colloque :

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