Colloque

Impédance et diagramme φ d'un applicateur hélicoïdal contenant un plasma

B.B. Truong

M. Nachman

Membre a labase

B.B. Truong

Résumé du colloque

Une source puissante de plasma en hyperfréquences, à onde progressive, a été réalisée à l'aide d'un applicateur hélicoïdal, contenant à 915 MHz. L'expression de l'impédance du système applicateur-plasma ainsi que son diagramme φ ont été trouvés en solutionnant les équations de Maxwell avec conditions aux frontières appropriées. On a déterminé, en même temps, expérimentalement l'impédance et le diagramme φ du système pour un plasma d'argon. Les mesures ont été faites pour différentes densités électroniques à plusieurs pressions du gaz. La variation du coefficient de propagation (β) en fonction de la densité électronique, à la fréquence de 915 MHz, a été trouvée en mesurant le changement de la phase du signal à la sortie de l'applicateur. Les résultats obtenus ont permis de réaliser une bonne adaptation du système à la source de micro-ondes et d'optimiser le transfert au plasma de la puissance fournie par la source.

Contexte

Section :

Génie électrique

Thème du colloque :

Génie électrique

Hôte : Université d'Ottawa

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