Colloque

Influence de la fréquence sur l'analyse des non-métaux par émission atomique à plasma d'onde de surface

Khanh-Chi Tran

Robert Sing

Joseph Hubert

Claude Lauzon

Membre a labase

Khanh-Chi Tran

Résumé du colloque

L'analyse des non-métaux par spectrométrie d'émission atomique, particulièrement en conjonction avec la chromatographie en phase gazeuse (GC), fait l'objet de recherches intensives par plusieurs groupes de recherche. Dans la majorité des cas, la source d'excitation est le plasma micro-onde opérant à 2450 ou 915 MHz et généré par une cavité résonante de type Beenaker ou par un lanceur d'onde de surface dit 'Surfatron'. Quelques articles font rapport de l'utilisation d'un plasma couplage inductif (ICP) opéré à 27 ou 40 MHz pour la détermination des non-métaux. Aucune comparaison de la performance relative des différentes sources de plasma n'a été entreprise en raison des différents principes de génération et des différences de construction. Récemment, un groupe de recherche en plasmas à l'Université de Montréal a mis au point un dispositif qui permet de générer un plasma d'onde de surface opérant à des fréquences de 27 à 2450 MHz. Des études ont été mises sur pied pour caractériser et comparer ces plasmas à différentes fréquences sur le plan de leurs caractéristiques (réduction, température, temps de résidence, etc.) et sur le plan de ses applications analytiques. Les performances analytiques sont comparées à la performance attendue des plasmas opérant à des fréquences entre 27 et 2450 MHz pour l'analyse des non-métaux (N, P, Cl, S, Br, I). Les résultats démontrent que la fréquence, incluant son impact sur la densité de l'énergie du plasma, joue un rôle significatif (précision et répétition) et maximal pour signal fond (bruit de détection). Des résultats pour le couplage du plasma avec un GC seront également présentés.

Contexte

Section :

Chimie analytique et minérale

Thème du colloque :

Chimie analytique et minérale

Hôte : Université Laval

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Titre du colloque :

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