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Les couches minces produites par plasmas "froids", matériaux aux propriétés "faites sur mesure"

M.R. Wertheimer
J.E. Klemberg-Sapieha
H.P. Schreiber
MW

Membre a labase

M.R. Wertheimer

Résumé du colloque

L'utilisation industrielle de couches minces subit actuellement une croissance remarquable dans divers domaines tels que la microélectronique, la technologie de conversion d'énergie, les revêtements optiques et métallurgiques, pour en nommer seulement quelques-uns. Parmi les méthodes de fabrication, la "plasma-polymérisation" devient de plus en plus attrayante car ces matériaux diélectriques ont certaines caractéristiques uniques : (i) très forte adhésion au substrat, (ii) continuité à l'échelle moléculaire (donc, absence de lacunes), et (iii) extrême résistance à l'attaque chimique, grâce à leur très forte réticulation. Ces caractéristiques sont particulièrement avantageuses, pour fins d'applications, dans le cas des couches organosiliconiques, produites dans un plasma hyperfréquence à une pression d'environ 0.2 Torr par simple contrôle des paramètres de fabrication (la densité de puissance dans le plasma, et la température du substrat on peut obtenir, à partir d'un même "monomère", des plasmas-polymères dont les propriétés physiques et chimiques varient très sensiblement. Nous illustrons ceci en nous référant à leurs spectres infrarouges, leur densité, l'indice de réfraction et leur coefficient de perméabilité à l'eau. Enfin, nous discuterons quelques applications particulières.

Contexte

Section :
Physique
news icon Thème du colloque :
Physique
host icon Hôte : Université du Québec à Montréal

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Titre du colloque :

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