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Résumé du colloque
Beaucoup de travaux ont été réalisés sur les propriétés électriques de diodes Schottky fabriquées sur d'InP. Cependant, très peu d'études ont été publiées sur des diodes faites à base de couches épitaxiales de ce matériau. Ceci nous a motivés à réaliser une étude systématique sur le mécanisme de transport de courant électrique de la barrière Schottky Au/p-InP. La couche épitaxiale de phosphure d'indium dopée avec d'éthylzinc a été fabriquée par la technologie MOVPE, développée à l'École Polytechnique de Montréal pour la croissance épitaxiale des composés III-V à base d'InP. La haute barrière Schottky (1.03eV) a été fabriquée par la déposition d'or sur la couche épitaxiale d'InP en utilisant la technique de canon électronique. La caractérisation de la jonction a été faite à l'aide des mesures du courant électrique et de la capacitance en fonction du voltage dans la gamme de température 150 à 400 K. Le facteur d'idéalité de la jonction a varié de 1.60 à 1.19 dans cette gamme de température. Pour une densité de courant direct J < 10^-1 A/cm^2, le transport de courant électrique est contrôlé par le mécanisme d'émission thermionique et l'autre de génération et recombinaison dans la région d'appauvrissement. Cependant pour J >10^-1 A/cm^2, il est nécessaire d'ajouter la contribution des états à l'interface de la jonction pour expliquer ces variations et d'autres de la capacitance en polarisation directe.
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