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Membranes de carbure de silicium produites par ablation laser pour les masques de lithographie à rayons-X

J. Voyer
T. Kerdja
P. Leung
F. Cerrina
G. Wells
S. Boily
J.C. Kieffer
H. Pépin
M. Chaker
A. Jean
JV

Membre a labase

J. Voyer

Résumé du colloque

La technique de l'ablation laser est de plus en plus utilisée pour la fabrication de films minces de haute qualité. Contrairement aux autres méthodes de dépôt utilisées pour la fabrication de membranes pour masques X (PECVD, CVD), l'ablation laser s'effectue à basse température et produit des films non hydrogénés. Nous avons réussi à produire des membranes de SiC de 2.5 cm de diamètre en irradiant une cible de ce matériau à l'aide d'un laser KrF (λ = 249 nm). La variation du taux de dépôt, l'uniformité et la qualité des films produits en fonction des paramètres du laser sont présentés ainsi que l'identité et l'énergie cinétique des particules impliquées dans le dépôt.

Contexte

Section :
Physique
news icon Thème du colloque :
Physique
host icon Hôte : Université de Montréal

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