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Near-field distribution after phase mask by rigorous diffraction theory

Yue Qiu
YunLong Sheng
YQ

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Yue Qiu

Résumé du colloque

Le masque de phase à l'illumination ultraviolette est utilisé largement à l'inscription des réseaux de Bragg dans la fibre et le guide d'onde. Nous analysons le champ d'interférence proche à l'arrière de la structure périodique du masque de phase par la méthode rigoureuse de l'analyse des ondes couplées et nous évaluons la distribution du champ proche du masque de phase en fonction des paramètres comme le retard de phase et le profil de fonction de phase et l'angle d'incidence du faisceau ultraviolet. Nous avons réalisé une optimisation du masque de phase par le calcul numérique pour maximiser les ordres ±1, supprimer les ordres 0 et ±2 ordres et minimiser ±3 ordres de diffraction.

Contexte

Section :
Optique guidée et photonique 5
news icon Thème du colloque :
Optique guidée et photonique 5
host icon Hôte : Université Laval

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Titre du colloque :

Optique guidée et photonique 5
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