Colloque

Optimisation des propriétés optiques des couches de nitrure de silicium déposées par PECVD

Arnaud Gorin

A. Jaouad

E. Grondin

V. Aimez

P. Charette

Membre a labase

Arnaud Gorin

Résumé de la communication

Les couches diélectriques à fort indice de réfraction telles que le nitrure de silicium sont des matériaux potentiellement importants pour l’intégration de guides d’onde plans dans les biocapteurs. Pour la déposition de ce type de couches, les procédés basse température, tels que la déposition chimique en phase vapeur assistée par plasma (PECVD), offrent la possibilité d’utiliser des substrats biocompatibles. Parmi les différents paramètres qui influencent les propriétés optiques du matériau déposé, la fréquence de la source RF n’a jamais été étudiée à notre connaissance, possiblement du au fait que la plupart des réacteurs PECVD sont réglés à une haute fréquence (13.56 MHz). Dans ce travail, des couches de nitrure de silicium ont été déposées en utilisant les dépôts PECVD à haute fréquence (13.56 MHz) et à basse fréquence (380 kHz). Ces couches ont ensuite été caractérisées par ellipsométrie dans le spectre visible. L’effet de la fréquence du plasma sur les propriétés optiques a été démontré. Une optimisation de la faible absorption du matériau ainsi que de l’indice de réfraction a permis d’obtenir un matériau de qualité comparable à ceux obtenus par le procédé haute température de déposition chimique en phase vapeur à basse pression (LPCVD). On a mesuré pour les guides d’onde optiques des pertes optiques inférieures à 1 dB/cm.

Résumé du colloque

La qualité de la recherche effectuée par les professeurs invités dans le cadre de ce colloque est de haut niveau et permettra de favoriser les échanges entre les différents groupes de recherche en biophotonique au Québec.

Contexte

Section :

Biophotonique : développements et applications

Thème du colloque :

Biophotonique : développements et applications

Responsables :

François Légaré

Hôte : Institut national de la recherche scientifique

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