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Résumé du colloque
Les principales caractéristiques du comportement de l'anode de cuivre dans les solutions chlorurées ou bromurées sont, en termes de dérivées partielles: (∂E/∂ log 1)25°C,X- = 60mV/dC, 10 (∂1/d0w)E,X=constante, (∂ log 1(1+w)½)x= 59 mV/dc alors que l'ordre de la réaction par rapport aux ions X- (Cl-, Br-) est égal à 2. Le terme 1d est entièrement attribuable à la diffusion d'un complexe de cuivre, le CuxX2, depuis la surface de l'électrode jusqu'au sein de la solution. Dans le cas où l'anion est un Br-, ce facteur est limité par un phénomène de surface assimilable au transfert électronique. Par ailleurs, l'étape la plus lente de la passivation est la diffusion des ions X- dans la solution. Enfin, les principales caractéristiques du comportement du cuivre dans les solutions fluorées sont gouvernées avec des X- = Cl- et Br-. Un modèle est présenté qui permet d'expliquer ces caractéristiques.
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