Colloque

Préparation de couches minces de Titanate de Barium par dépôt organométallique

Wahib Ousi Benomar

Amarjit Singh

Roger A. Lessard

Membre a labase

Wahib Ousi Benomar

Résumé du colloque

Des films minces de Titanate de Barium ont été réalisés par dépôt organométallique. Une technique qui consiste à dissoudre un organométallique dans un solvant adapté avec la concentration correspondante à l'épaisseur désirée. Les films sont portés à des températures de 600°C et subissent une décomposition qui va aboutir à la formation de l'oxyde de l'élément présent dans le précurseur. Les organométalliques contenant le Barium et le Titane sont dissous dans le xylène et sont mélangés ensemble de façon équimolaire. Quelques gouttes de cette solution sont ensuite déposées sur une lame de quartz ou de Saphir et sont soumises à des rotations de quelques milliers de tours par minute pour y obtenir une couche uniforme. Le film obtenu est chauffé à 600°C pour donner du BaTiO3 amorphe. Des recuits à des températures plus élevées sont nécessaires pour cristalliser ces films. La structure des couches a été caractérisée par la diffraction des rayons X. Une étude par la spectroscopie des photoélectrons a permis de déterminer les éléments présents dans les films. Le gap d'énergie a été mesuré pour les couches amorphes et cristallisées, 4.2 et 3.95 eV respectivement. Des mesures d'indice de réfraction ont été effectuées par ellipsométrie et donnent des valeurs voisines de celles obtenues pour les mêmes matériaux préparés par R.F sputtering.

Contexte

Section :

Physique

Thème du colloque :

Physique

Hôte : Université de Montréal

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Titre du colloque :

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