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Préparation de films minces a-CH par déposition par plasma HF et l'étude de leur comportement suite à leur exposition au plasma dans le Tokamak de Varennes

Adile A. Benmassaoud
Bernard Terreault
Georges Veilleux
Royston Paynter
Guy Ross
AA

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Adile A. Benmassaoud

Résumé du colloque

L'étude des interactions plasma-paroi et la compréhension des phénomènes multiples qui les gouvernent ont permis de confirmer que la technologie associée, à la fusion thermonucléaire contrôlée, ne peut se faire valoir qu’avec la réduction des contraintes thermiques, mécaniques, chimiques et neuroniques qu’auront à subir les structures du réacteur. Ces problèmes de nature technique, d’un coût, et technologique, de l’autre, pourraient être réduits, entre autres, par le recouvrement de la paroi par des matériaux à faible Z. Dans ce sens, des films minces de a-CH ont été déposés par plasma HF de 13.56 MHz à partir d’un mélange 10% CH4, H2 et 25% CH4 H2. Ces films ont été préparés dans une chambre à vide selon différentes conditions d’opérations. Des analyses de surfaces par SIMS, AES, RFI, ERD ExB et RAMAN ont été effectuées sur les différents dépôts avant et après leurs expositions au Tokamak de Varennes.

Contexte

Section :
Chimie physique et des surfaces
news icon Thème du colloque :
Chimie physique et des surfaces
host icon Hôte : Université de Sherbrooke

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Titre du colloque :

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