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Résumé du colloque
Des miroirs multicouches à incidence normale pour les rayons X mous de longueur d'onde comprise entre 50 et 150 ont été réalisés par la technique d'ablation laser. Un laser excimer KrF d'une longueur d'onde de 249 nm qui fournit des impulsions d'une énergie de 200 mJ et d'une durée de 12 ns a été utilisé. Les dépôts étaient contrôlés à l'aide d'une microbalance à cristal de quartz. Des miroirs de bonne qualité constitués de couches dont l'épaisseur est comprise entre 10 et 50 ont été obtenus avec cette méthode de dépôt. Les résultats de la caractérisation de ces miroirs par diffraction des rayons X à angles rasants, microscopie électronique à transmission et mesure de réflectivité absolue lors d'exposition au rayonnement synchrotron sont présentés. Les avantages et les limites de cette méthode de dépôt pour les couches minces seront discutés dans le contexte de développement de composantes d'optique X pour la lithographie X à projection.
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