Colloque

Rôle du bombardement ionique dans le dépôt des couches minces par plasma

Ludvik Martinu

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Ludvik Martinu

Résumé du colloque

Le contrôle des interactions plasma-surface est essentiel pour la fabrication et la modification des matériaux dans l’environnement plasma à basse pression. En particulier, le bombardement de la surface par des ions de basse énergie (<1000 eV) permet de varier la qualité des matériaux; ceci résulte de la dissipation d’énergie à la surface qui peut agir sur la mobilité des espèces et leur réactivité chimique ainsi que provoquer leur réémission, la pulvérisation, leur incorporation et d’autres phénomènes. Dans cette recherche, une décharge "mixte" (microonde avec polarisation radiofréquence) a été utilisée afin de contrôler le flux et l’énergie des ions de façon indépendante. La dissipation d’énergie à la surface, surtout l’énergie ionique par atome déposé, est utilisée afin d’expliquer l’évolution de différents types de microstructure et de morphologie de couches minces diélectriques (oxyde et nitrure de silicium, carbone amorphe hydrogéné: simili-diamant), et leur corrélation avec la structure chimique et les propriétés physiques comme la densité et la contrainte mécanique.

Contexte

Section :

Physique

Thème du colloque :

Physique

Hôte : Université de Montréal

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