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Synthèse de poudres ultrafines de Si3N4 par plasma thermique à hautes fréquences

GS

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Gervais Soucy

Résumé du colloque

Depuis les vingt dernières années, un intérêt croissant envers les céramiques avancées se manifeste à cause de leurs propriétés mécaniques et chimiques uniques pour des applications à hautes performances. Dans ce contexte, la synthèse du Si3N4 en phase vapeur par technologie des plasmas thermiques présente des avantages à explorer pour obtenir une poudre de qualité supérieure. Une étude systématique a été accomplie pour déterminer les effets des différents paramètres d'opération du réacteur sur la conversion et la qualité du produit. Les résultats ont démontré la faisabilité de la production de Si3N4 via la réaction du SiCl4 avec NH3 dans un plasma d'Ar/H2 ou d'Ar/H2/N2. La poudre obtenue de couleur blanche ou beige se compose principalement de particules amorphes et cristallines. Les phases α et β ont été détectées de même que quelques trichites. Un excès de NH4Cl variait selon les conditions et pouvait être éliminé par traitement thermique. Les poudres avaient en moyenne 36 nm de diamètre et une surface spécifique variant entre 43.1 et 117.5 m2/g. Bref, il s'agit d'une étude exploratoire pour trouver les points importants à la phase d'optimisation du projet.

Contexte

host icon Hôte : Université Laval

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