Colloque

Traitement de matériaux par plasma hyperfréquence/radiofréquence mixte

Jolanta Klemberg-Sapieha

Michael R. Wertheimer

Ludvik Martinu

Membre a labase

Jolanta Klemberg-Sapieha

Résumé du colloque

Nous utilisons routinièrement les plasmas à "fréquence mixte" pour les opérations de gravure, de dépôt de couches minces, et de modification de surfaces de matériaux: l’excitation hyperfréquentielle (h.f., 2.45 GHz) assure une concentration élevée d’espèces actives en phase gazeuse, tandis que la puissance radiofréquentielle (r.f., 13.56 MHz), que l’on applique de manière indépendante au porte-substrat électriquement isolé, crée une polarisation V, variable entre 0 et -800 V. Celle-ci, à son tour, provoque un bombardement du substrat par des ions dont l’énergie et le flux peuvent être sélectionnés de façon à optimiser le procédé. Nous étudions l’effet de la composante r.f. sur les caractéristiques du plasma par la spectroscopie d’émission optique. Nous illustrerons ces applications du plasma h.f./r.f. mixte par deux exemples: (i) l’incorporation d’azote dans le polyéthylène et le polyimide à l’aide de plasma N2 et NH3; et (ii) le dépôt de couches protectrices (carbone amorphe "smili-diamant" et nitrure de silicium). Nous décrivons l’effet des interactions plasma-surface sur la structure, la composition et les propriétés physiques de ces couches minces.

Contexte

Section :

Physique

Thème du colloque :

Physique

Hôte : Université de Montréal

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