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Résumé du colloque
A l'aide d'un accélérateur 150 kV muni de trois sources d'ions interchangeables, nous avons implanté des ions de carbone et de lithium dans un échantillon d'aluminium. La distribution en profondeur des ions implantés est déterminée par l'énergie et l'intensité du faisceau et la durée du bombardement. La concentration absolue des atomes implantés en fonction de la profondeur (jusqu'à ~ 1 μm) est par la suite déterminée par des mesures de type RDR (rétrodiffusion Rutherford) et DIRE (détection d'ions de recul élastique), effectuées à l'aide d'un accélérateur Van de Graaff de 3 MV capable de produire des faisceaux de Ne⁺⁺ à 20 MeV. Nous avons essayé d'améliorer la résolution en profondeur de cette dernière technique pour disperser les particules qui sont éjectées de la cible. Les résultats de ces tentatives seront présentés lors du congrès. Nous avons également suivi l'évolution de la distribution en profondeur des ions implantés en fonction de la température et la durée de l'étuvage que l'échantillon a subi.
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