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Utilisation du plasma à onde de surface comme source d'ionisation en analyse élémentaire par spectrométrie de masse

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Denis Boudreau

Résumé du colloque

La spectrométrie de masse est une technique utilisée depuis plusieurs années en analyse élémentaire. Parmi les sources d'ionisation qui ont été développées à cet effet, le plasma à couplage inductif (ICP) présente de nombreuses caractéristiques avantageuses qui ont fait de la technique ICP-MS l'une des plus performantes en analyse élémentaire. Cette source est bien adaptée à l'analyse des solides réduits (terre et minerais) sous une finesse de 0,1 mm, mais elle nécessite l'adjonction d'un solvant ou autrefois du plasma. Des travaux ont montré que l'utilisation du plasma induit par micro-ondes (MIP) comme source d'ionisation permettait, dans certains cas, d'abaisser les limites de détection inférieures à celles obtenues par ICP-MS. Cependant, cette technique n'est pas encore utilisée pour l'instabilité des émissions et leur médiocre comme source d'atomisation. Le plasma à onde de surface (SWP) est reconnu pour sa stabilité et son efficacité comme source d'excitation en spectrométrie d'émission atomique. Les travaux sur l'utilisation du SWP comme source d'ionisation en spectrométrie de masse sont peu nombreux et aucun ne porte sur l'utilisation de puissances supérieures à 200 W. Nous présenterons les résultats de nos travaux sur l'utilisation de plasmas SWP à puissance intermédiaire (400 - 800 W) comme source d'ions en spectrométrie de masse. Cette présentation portera sur la caractérisation de la décharge à pression réduite résultant de l'ionisation de plasma, et sur l'influence des paramètres d'opération du plasma sur le spectre d'émission optique et le spectre des ions obtenus.

Contexte

news icon Thème du colloque :
Chimie analytique et minérale
host icon Hôte : Université Laval

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Titre du colloque :

Chimie analytique et minérale

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