C. Aktik

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62e Congrès de l'Acfas : Étude de l’effet de la gravure sèche et des hautes températures sur l’interface Si/SiO2 par DLTS

51e Congrès de l'Acfas : Dispositifs Schottky et MIS faites à partir du Si-amorphe

Communications de C. Aktik

Étude de l’effet de la gravure sèche et des hautes températures sur l’interface Si/SiO2 par DLTS
S. Belkouch
Congrès 1994
Génie électrique
Dispositifs Schottky et MIS faites à partir du Si-amorphe
A. Azelmad
Congrès 1983
Physique
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