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La gravure de polymères organiques par un plasma "froid" est devenu important dans plusieurs domaines d'applications de la micro-électronique. Nous avons utilisé un plasma micro-onde (2.45 GHz) d'un mélange gazeux de O2/C4F8 de composition variable afin d'étudier la gravure du polyimide, du nylon, du mylar, du polycarbonate et du polyéthylène. Les travaux ont été réalisés à l'aide d'un nouveau réacteur de plasma permettant la gravure uniforme d'un échantillon de grande surface (700 cm^2); ceci a été possible grâce à un nouveau concept de répartition et de densification du porte-échantillon. Nous avons étudié l'effet de plusieurs paramètres opératoires: pression, débit, composition …