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Analyse des propriétés mécaniques des couches minces par le MicroScratch-Tester
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Les propriétés mécaniques représentent des caractéristiques importantes des couches optiques et protectrices, et les couches anti-reflet ou les barrières contre la perméation des gaz. Dans ce travail, des couches posées sur des substrats intermédiaires et des épaisseurs de moins d'un micromètre sont évaluées par le MicroScratch-Tester. Durant le test, une pointe sphérique de diamant (Rockwell C) se déplace le long de la surface à force normale (0.01-30 N) constante ou croissante. Le signal acoustique et la force tangentielle sont tous enregistrés et la trace est jugée par la microscopie optique. Ceci permet de déterminer la charge critique, le mode de …

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Fabrication et modélisation de structures optiques à multicouches et à gradient d'indice déposées par plasma
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Fabriquer des revêtements optiques de qualité devient de plus en plus important dans l'industrie de l'électronique et de l'optoélectronique. Afin de mieux en contrôler les propriétés optiques, ces revêtements sont préférablement conçus sous forme de multicouches ou de films à gradient d'indice. De telles structures, à multicouches (SiN1.3/SiO2) et à gradient d'indice (SiOxNy avec x et y variables) sont fabriquées par plasma froid à double fréquence. Les spectres de réflexion et de transmission spéculaires et diffusées de ces couches sont mesurés dans la gamme de l'ultra-violet et du visible à l'aide d'une sphère d'intégration. Les spectres obtenus sont étudiés en …

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Les couches minces produites par plasmas "froids", matériaux aux propriétés "faites sur mesure"
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L'utilisation industrielle de couches minces subit actuellement une croissance remarquable dans divers domaines tels que la microélectronique, la technologie de conversion d'énergie, les revêtements optiques et métallurgiques, pour en nommer seulement quelques-uns. Parmi les méthodes de fabrication, la "plasma-polymérisation" devient de plus en plus attrayante car ces matériaux diélectriques ont certaines caractéristiques uniques : (i) très forte adhésion au substrat, (ii) continuité à l'échelle moléculaire (donc, absence de lacunes), et (iii) extrême résistance à l'attaque chimique, grâce à leur très forte réticulation. Ces caractéristiques sont particulièrement avantageuses, pour fins d'applications, dans le cas des couches organosiliconiques, produites dans un plasma …

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