Veuillez choisir le dossier dans lequel vous souhaitez ajouter ce contenu :
Filtrer les résultats
Colloque
Les couches diélectriques à fort indice de réfraction telles que le nitrure de silicium sont des matériaux potentiellement importants pour l’intégration de guides d’onde plans dans les biocapteurs. Pour la déposition de ce type de couches, les procédés basse température, tels que la déposition chimique en phase vapeur assistée par plasma (PECVD), offrent la possibilité d’utiliser des substrats biocompatibles. Parmi les différents paramètres qui influencent les propriétés optiques du matériau déposé, la fréquence de la source RF n’a jamais été étudiée à notre connaissance, possiblement du au fait que la plupart des réacteurs PECVD sont réglés à une haute fréquence …
