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pen icon Communication
Développement de nouveaux polymères pour la photolithographie dans l'UV lointain
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En microphotolithographie, pour réduire la taille des circuits imprimés ou pour augmenter leur capacité de stockage, il faut nécessairement augmenter le pouvoir de résolution de la technique de lithographie. L’augmentation du pouvoir de résolution est possible avec l’utilisation de sources lasers de longueur d’onde inférieure (193 nm ou 157 nm) à celle couramment utilisée (248 nm). Cependant, l’utilisation de telles sources lasers est incompatible avec les résines photosensibles qui entrent actuellement dans la composition des circuits imprimés. Il faut donc concevoir et caractériser de nouveaux polymères qui répondent aux critères exigés pour la microlithographie i.e. la transparence à la longueur …

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