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pen icon Colloque
Cinétique du dépôt d'un film de C : H sur des nanopoudres par une décharge RF dans des gaz d'hydrocarbures
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Des nanopoudres de SiO2 amorphe ont été traitées par un plasma rf d'hydrocarbure (méthane, éthane, éthylène, ou acétylène), couplé capacitivement (1 - 5 kPa, 10 - 20 W/cm2), dans le but de les recouvrir d'une nanocouche. Un film de C:H amorphe a été observé dans le cas du CH4 et du C2H6. Le plasma (dopé à l'azote) était diagnostiqué simultanément par SEO. Sa température rotationnelle a été déduite des bandes Swan C2 et N2(2+); la température d'excitation de l'hydrogène Texc a été mesurée à partir des raies atomiques H - H. La composition du gaz de sortie a été analysée …

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