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Colloque
Lorsqu'on utilise les sources de plasma à décharges HF dans des applications comme la technologie des lasers ou la plasmochimie, il est important d'optimiser le fonctionnement de ces sources. Une telle optimisation exige la connaissance de la densité et de la température électronique. Dans le plasma, les variations de ces paramètres sont fonction de divers paramètres contrôlant la décharge. La présente communication fait le point sur les grandeurs en jeu pour un plasma d'argon à haute puissance. La méthode utilisée pour ces mesures est celle de la sonde de Langmuir. Dans un certain nombre de configurations expérimentales, les propriétés habituelles …
Colloque
Dans l'application des hyperfréquences au séchage, le transfert de puissance HF au matériau à sécher est souvent limité par le claquage de la vapeur d'eau dégagée. Pour minimiser l'effet de ce phénomène, il est important de connaître la fraction de la puissance incidente qui est dissipée dans la décharge, pour différentes conditions expérimentales. Dans cette communication, on présente les résultats des expériences faites sur le transfert de puissance HF à une décharge électrique dans de la vapeur d'eau. Une source pulsée fonctionnant à 2.45 GHz, va servir pour coupler la puissance HF à la vapeur d'eau contenue dans un tube …
Colloque
Dans l'application des hyperfréquences au séchage, le transfert de puissance HF au matériau à sécher est souvent limité par le claquage de la vapeur d'eau dégagée. Pour minimiser l'effet de ce phénomène, il est important de connaître la fraction de la puissance incidente qui est dissipée dans la décharge, pour différentes conditions expérimentales. Dans cette communication, on présente les résultats des expériences faites sur le transfert de puissance HF à une décharge électrique dans de la vapeur d'eau. Une source pulsée fonctionnant à 2.45 GHz, va servir pour coupler la puissance HF à la vapeur d'eau contenue dans un tube …
