Résultats de recherche

filters logos

Filtrer les résultats

arrow down
Années
exclamation icon
Type de contenu
Exporter les résultats Sauvegarder les résultats
8 résultats de recherche
pen icon Colloque
Effet de la tension et de la fréquence de polarisation RF sur la vitesse de gravure du polyimide
quote

Les traitements de surfaces par plasma font désormais partie intégrante du paysage industriel, et les applications de cette technique ne se comptent plus. Néanmoins, les mécanismes physico-chimiques qui régissent l'interaction plasma-surface sont complexes et jusqu'à présent mal connus. Dans ce cadre, nous avons montré que l'effet de la tension de polarisation appliquée à un substrat de Si recouvert de polyimide se manifeste par deux régimes de gravure: (I) gravure chimique et (II) gravure chimique induite. De plus, en faisant varier la fréquence de polarisation, nous avons pu mettre en évidence deux situations nouvelles: dans le cas d'une gravure s'effectuant via …

quote
pen icon Colloque
Création d'un plasma homogène de grand volume à l'aide d'une structure à ondes de fuite
quote

Un rayonnement électromagnétique peut émerger d'une ou plusieurs fentes pratiquées dans le grand côté d'un guide d'ondes rectangulaire. Ce principe, précédemment utilisé pour la conception d'antennes, connaît depuis quelques années un nouvel essor. En effet, de telles structures permettent également d'ioniser un gaz maintenu sous une pression réduite. Cette communication est consacrée à deux aspects essentiels de ce type de décharge. Tout d'abord l'efficacité de l'applicateur micro-onde, en l'occurrence une version modifiée du GL-512 fabriqué par la compagnie Gerling (2.45 GHz, 0.3 metre, WR-430), sera examinée. Des mesures de densité électronique obtenues à partir de sondes électrostatiques de Langmuir nous …

quote
pen icon Colloque
Création d'un plasma homogène de grand volume à l'aide d'une structure à ondes de fuite
quote

Un rayonnement électromagnétique peut émerger d'une ou plusieurs fentes pratiquées dans le grand côté d'un guide d'ondes rectangulaire. Ce principe, précédemment utilisé pour la conception d'antennes, connaît depuis quelques années un nouvel essor. En effet, de telles structures permettent également d'ioniser un gaz maintenu sous une pression réduite. Cette communication est consacrée à deux aspects essentiels de ce type de décharge. Tout d'abord l'efficacité de l'applicateur micro-onde, en l'occurrence une version modifiée du GL-512 fabriqué par la compagnie Gerling (2.45 GHz, 0.3 metre, WR-430), sera examinée. Des mesures de densité électronique obtenues à partir de sondes électrostatiques de Langmuir nous …

quote
pen icon Colloque
Torche à plasma micro-onde
quote

Il est possible d'ioniser un gaz présent à l'intérieur d'un tube diélectrique à l'aide d'énergie micro-onde. C'est ce qui arrive, par exemple, lorsqu'un tube de Pyrex traverse un guide d'ondes par ses grands côtés. On peut cependant remplacer le diélectrique par un matériau conducteur comme le cuivre. Dans ce cas particulier, le gaz qui s'écoule à l'extrémité de ce manchon est ionisé, formant ainsi une torche à plasma micro-onde à la pression atmosphérique. Nous présentons ici deux aspects particuliers de cette nouvelle torche. Tout d'abord, le dispositif lui-même sera décrit en mettant l'accent sur sa très grande souplesse au niveau …

quote
pen icon Colloque
Torche à plasma micro-onde
quote

Il est possible d'ioniser un gaz présent à l'intérieur d'un tube diélectrique à l'aide d'énergie micro-onde. C'est ce qui arrive, par exemple, lorsqu'un tube de Pyrex traverse un guide d'ondes par ses grands côtés. On peut cependant remplacer le diélectrique par un matériau conducteur comme le cuivre. Dans ce cas particulier, le gaz qui s'écoule à l'extrémité de ce manchon est ionisé, formant ainsi une torche à plasma micro-onde à la pression atmosphérique. Nous présentons ici deux aspects particuliers de cette nouvelle torche. Tout d'abord, le dispositif lui-même sera décrit en mettant l'accent sur sa très grande souplesse au niveau …

quote
pen icon Colloque
Torche à plasma micro-onde
quote

Il est possible d'ioniser un gaz présent à l'intérieur d'un tube diélectrique à l'aide d'énergie micro-onde. C'est ce qui arrive, par exemple, lorsqu'un tube de Pyrex traverse un guide d'ondes par ses grands côtés. On peut cependant remplacer le diélectrique par un matériau conducteur comme le cuivre. Dans ce cas particulier, le gaz qui s'écoule à l'extrémité de ce manchon est ionisé, formant ainsi une torche à plasma micro-onde à la pression atmosphérique. Nous présentons ici deux aspects particuliers de cette nouvelle torche. Tout d'abord, le dispositif lui-même sera décrit en mettant l'accent sur sa très grande souplesse au niveau …

quote
pen icon Colloque
Torche à plasma micro-onde
quote

Il est possible d'ioniser un gaz présent à l'intérieur d'un tube diélectrique à l'aide d'énergie micro-onde. C'est ce qui arrive, par exemple, lorsqu'un tube de Pyrex traverse un guide d'ondes par ses grands côtés. On peut cependant remplacer le diélectrique par un matériau conducteur comme le cuivre. Dans ce cas particulier, le gaz qui s'écoule à l'extrémité de ce manchon est ionisé, formant ainsi une torche à plasma micro-onde à la pression atmosphérique. Nous présentons ici deux aspects particuliers de cette nouvelle torche. Tout d'abord, le dispositif lui-même sera décrit en mettant l'accent sur sa très grande souplesse au niveau …

quote
pen icon Colloque
Vitesse de gravure d'un polymide par un plasma O2/CF4: influence de la tension et de la fréquence de polarisation RF appliquée au substrat
quote

Si, grâce à l'industrie de la microélectronique, les réactions entre le plasma et le silicium sont connues et modélisées, la physico-chimie résultante de l'interaction d'un plasma et d'un polymide reste encore obscure. De nombreux articles, qui font état de la modification de polymide par plasma froid, ignorent les aspects de mécanismes réactionnels. Nous avons entrepris d'étudier l'effet du bombardement ionique sur les mécanismes de gravure plasma mettant ainsi en évidence la composante de la vitesse de gravure due à ce bombardement lorsqu'on applique une tension de polarisation RF (13.56 MHz) à un substrat de silicium recouvert de polymide. Le plasma …

quote