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Les tendances du marché prévoient que dans un proche avenir, les imprimantes à jets d'encre seront les plus utilisées et les plus pratiques pour ce qui est de l'impression couleur. Leur rapport qualité-prix les avantage par rapport aux imprimantes laser traditionnelles, bien que ces dernières présentent actuellement une qualité d'impression exemplaire. Ceci exigera de l'industrie de développer un papier compatible avec les deux types d'imprimantes. Les imprimantes à jets d'encre utilisent de l'encre liquide contenant 80-90% d'eau, ce qui entraîne après impression une réduction de la qualité d'impression. Cette réduction peut s'expliquer par le fait que l'encre mouille la feuille, …
Les plasmas "froids" à basse pression (10⁻² - 10 Torr) sont utilisés depuis longtemps dans des procédés de fabrication de microcircuits électroniques et pour la modification de surfaces polymériques. Consistant en un mélange complexe de particules chargées et neutres; cependant, ils sont aussi une source importante de radiation électromagnétique couvrant une large bande spectrale. Les radiations de faibles longueurs d'onde, particulièrement dans le domaine UV-VOU, sont suffisamment énergiques pour causer des réactions photochimiques. Nous avons mis au point un système monochromatique permettant de détecter l'énergie électromagnétique émise dans la gamme UV-VIS (15 nm < λ < 900 nm), système qui …
Les carbones activés de types BPL et ASC (imprégné de Cu, Cr et Ag) sont utilisés comme membrane de protection pour le traitement d'adsorbeur sur une grande variété de composés chimiques. L'adsorption de molécules H2O ou un environnement trop humide réduisent cependant l'efficacité envers ces molécules toxiques: le plasma de l'azote modifie l'état d'oxydation des métaux imprégnés. Le but de cette étude est d'évaluer l'efficacité du traitement par plasma froid sur la performance de l'adsorbeur. Les échantillons révèlent une grande activité envers les produits CO, H2O, et H2. Ce travail fait partie d'une étude sur le Carbone actif. Suivant une …
L'interface métal/semiconducteur joue un rôle fondamental en micro-électronique. Or, lorsqu'un métal est déposé par pulvérisation, l'énergie moyenne des particules est plus élevée que dans le cas de dépôt par évaporation. Quels sont les effets de ces particules énergétiques sur le substrat cristallin et sur l'interface métal/Si ? Plusieurs auteurs ont observé une nette amélioration des propriétés physico-chimiques (densité, adhérence, conductivité, etc.) de couches minces déposées par pulvérisation, en comparaison à l'évaporation. L'originalité de notre travail consiste à observer l'effet de la déposition par pulvérisation sur la cristallinité de la surface du substrat et sur l'état de l'interface métal/Si pour de …
Parmi les premières applications envisagées pour de minces couches organiques produites par décharges électriques (plasma-polymères), PP fut leur emploi comme diélectriques. Cependant, ces couches, jusqu'à présent, ne sont pas satisfaisantes aux polymères conventionnels à cause de leurs pertes diélectriques (tan δ) relativement plus importantes et de leur permittivité tendancieuse de "vieillissement" plus rapide. Notre étude est basée sur la caractérisation diélectrique de films d'organosilicones déposés dans un plasma hyperfréquentiel du type "LMP" ("Large Volume Microwave Plasma Generator"). Au cours des dernières années nous avons montré que le choix judicieux des nombreux paramètres de fabrication permet d'optimaliser les propriétés pour une …