Résultats de recherche

filters logos

Filtrer les résultats

arrow down
Années
exclamation icon
Type de contenu
Exporter les résultats Sauvegarder les résultats
2 résultats de recherche
pen icon Colloque
Étude spectroscopique des propriétés physico-chimiques des couches minces céramiques (a-B/C : H/D) déposées et exposées au plasma dans TdeV
quote

Les revêtements des matériaux faisant face au plasma (PFM), par des couches minces de bore/carbone amorphes hydrogénées (a-B/C:H/D), sont d'un intérêt capital pour les réacteurs de fusion tels que le Tokamak de Varennes (TdeV). Des nombreuses questions reliées au processus de déposition de tels films et aux effets des interactions plasma-surface (PSIs) sur leurs propriétés sont en cours d'étude. Pour cette raison, nous avons opté pour l'étude et la comparaison des propriétés physico-chimiques des films a-B/C:H/D durant les deux étapes principales : (i) l'étape de la déposition (par PECVD), usuellement nommée boration, et (ii) après l'exposition de ces dépôts au …

quote
pen icon Colloque
Étude spectroscopique des propriétés physico-chimiques des couches minces céramiques (a-B/C : H/D) déposées et exposées au plasma dans TdeV
quote

Les revêtements des matériaux faisant face au plasma (PFM), par des couches minces de bore/carbone amorphes hydrogénées (a-B/C:H/D), sont d'un intérêt capital pour les réacteurs de fusion tels que le Tokamak de Varennes (TdeV). Des nombreuses questions reliées au processus de déposition de tels films et aux effets des interactions plasma-surface (PSIs) sur leurs propriétés sont en cours d'étude. Pour cette raison, nous avons opté pour l'étude et la comparaison des propriétés physico-chimiques des films a-B/C:H/D durant les deux étapes principales : (i) l'étape de la déposition (par PECVD), usuellement nommée boration, et (ii) après l'exposition de ces dépôts au …

quote