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Communication
Depuis plusieurs années, l'élaboration de motifs polypropionates en synthèse organique a suscité beaucoup d'intérêt dû à la présence de ces motifs dans de nombreux composés naturels d'intérêt thérapeutique. Cet exposé présentera le développement d'une nouvelle approche synthétique menant au motif anti-syn 3 en appliquant en tandem l'aldolisation de type Mukaiyama et la réduction radicalaire en présence d'acide de Lewis à partir du b-alkoxyaldéhyde 1. Afin d'optimiser la sélectivité lors de ces deux étapes, différents acides de Lewis et énols silylés 2 ont été étudiés.
Communication
Depuis plusieurs années, l'élaboration de motifs polypropionates en synthèse organique a suscité beaucoup d'intérêt dû à la présence de ces motifs dans de nombreux composés naturels d'intérêt thérapeutique. Cet exposé présentera le développement d'une nouvelle approche synthétique menant au motif anti-syn 3 en appliquant en tandem l'aldolisation de type Mukaiyama et la réduction radicalaire en présence d'acide de Lewis à partir du b-alkoxyaldéhyde 1. Afin d'optimiser la sélectivité lors de ces deux étapes, différents acides de Lewis et énols silylés 2 ont été étudiés.
