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Étude des surfaces de quartz et de Si/SiO2 modifiées par implantation ionique à l'aide de la technique XPS
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L'objectif de cette recherche est de modifier la mouillabilité des surfaces composées d'oxyde de silicium, SiO2, principal composant de la porcelaine, des verres et des couches anti-rayures utilisées en optométrie, afin de mettre au point des traitements anti-buée et anti-givre. L'implantation ionique à basse énergie (~keV) est un outil efficace pour ces traitements. Il a l'avantage sur les plasmas de permettre un meilleur contrôle des paramètres de traitement (énergie, dose et pureté du faisceau) tout en éliminant les rayonnements X et UV. Les matériaux utilisés sont le quartz (isolant) et le silicium (semi-conducteur avec une surface de SiO2) ce qui …

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Étude des surfaces de quartz et de Si/SiO2 modifiées par implantation ionique à l'aide de la technique XPS
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L'objectif de cette recherche est de modifier la mouillabilité des surfaces composées d'oxyde de silicium, SiO2, principal composant de la porcelaine, des verres et des couches anti-rayures utilisées en optométrie, afin de mettre au point des traitements anti-buée et anti-givre. L'implantation ionique à basse énergie (~keV) est un outil efficace pour ces traitements. Il a l'avantage sur les plasmas de permettre un meilleur contrôle des paramètres de traitement (énergie, dose et pureté du faisceau) tout en éliminant les rayonnements X et UV. Les matériaux utilisés sont le quartz (isolant) et le silicium (semi-conducteur avec une surface de SiO2) ce qui …

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