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Communication
L’épitaxie par jets chimiques est une technique de dépôt de couches minces de composition et d’épaisseur contrôlées sur des substrats pour des applications microélectroniques ou photoniques. Afin de maximiser la quantité de dispositifs utiles, l’industrie des composants exige une excellente uniformité des films déposés. La méthode couramment utilisée consiste à injecter les gaz suivant de larges plages angulaires tout en faisant tourner le substrat autour de son axe. Cependant, cette solution impose de fortes pertes de matériaux sources onéreux et requiert l’utilisation d’un porte-échantillon fragile et très coûteux. La tendance actuelle étant de réduire les coûts de fabrication des dispositifs …
