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Préparation de films minces a-CH par déposition par plasma HF et l'étude de leur comportement suite à leur exposition au plasma dans le Tokamak de Varennes
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L'étude des interactions plasma-paroi et la compréhension des phénomènes multiples qui les gouvernent ont permis de confirmer que la technologie associée, à la fusion thermonucléaire contrôlée, ne peut se faire valoir qu’avec la réduction des contraintes thermiques, mécaniques, chimiques et neuroniques qu’auront à subir les structures du réacteur. Ces problèmes de nature technique, d’un coût, et technologique, de l’autre, pourraient être réduits, entre autres, par le recouvrement de la paroi par des matériaux à faible Z. Dans ce sens, des films minces de a-CH ont été déposés par plasma HF de 13.56 MHz à partir d’un mélange 10% CH4, H2 …

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L'étude des interactions plasma-paroi et la compréhension des phénomènes multiples qui les gouvernent ont permis de confirmer que la technologie associée, à la fusion thermonucléaire contrôlée, ne peut se faire valoir qu’avec la réduction des contraintes thermiques, mécaniques, chimiques et neuroniques qu’auront à subir les structures du réacteur. Ces problèmes de nature technique, d’un coût, et technologique, de l’autre, pourraient être réduits, entre autres, par le recouvrement de la paroi par des matériaux à faible Z. Dans ce sens, des films minces de a-CH ont été déposés par plasma HF de 13.56 MHz à partir d’un mélange 10% CH4, H2 …

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