Veuillez choisir le dossier dans lequel vous souhaitez ajouter ce contenu :
Filtrer les résultats
La production industrielle des fibres de SiC par la pyrolyse du poly(diméthylsilane) en 1978 a resuscité l'intérêt des chercheurs vers les polymères organiques de silicium. Une avalanche de nouveaux précurseurs ont été étudiés par raport à leur aptitude de former non seulement SiC, mais aussi d'autres matériaux, comme Si3N4, les oxydes "dopés" SiOC, SiON, ou SiCxNy. Ces matériaux, façonnés en membranes, mais encore plus important, en couches minces, sont à la base du nouvel essor de l'industrie des semiconducteurs. Pendant que les méthodes CVD dominent actuellement la production des films céramiques pour l'industrie microélectronique, des méthodes à l'echelle "méso-moleculaire" adaptées …
La résistance supérieure des couches minces de SiC vers l'oxidation à haute température est de plus en plus utilisée dans une énorme diversité des domaines, incluant les moteurs céramiques et des dispositifs semiconducteurs. Des couches protectrices de SiC sur C(gr) ont aussi permis une réduction dramatique de la teneur en carbon du silicium monocrystallin Czochralski, en réduisant la formation du CO pendant la croissance des monocrystaux. Les propriétés des couches minces de SiC obtenues par CP-VD, perçues d'une manière générale comme intermédiaires entre celles des films crystallins obtenus par CVD et celles des depôts amorphes dérivés de la pyrolyse des …
Une nouvelle technique (CP-VD) a été conçue pour combiner les avantages offerts par les deux méthodes classiques utilisées présentement dans la synthèse des couches minces céramiques: la déposition chimique de la phase des vapeurs (CVD) et la pyrolyse des polymères précurseurs. De cette manière, des vitesses de déposition accrues sur de larges surfaces complexes (caractéristiques pour la route polymérique) deviennent accessibles alors que la possibilité de structuralisation de couches formées à partir des molécules qui gardent leur mobilité sur la surface de déposition (caractéristique pour CVD) est maintenue. Malgré sa nouveauté, des résultats remarquables ont déjà été obtenus dans la …
Une nouvelle technique (CP-VD) a été conçue pour combiner les avantages offerts par les deux méthodes classiques utilisées présentement dans la synthèse des couches minces céramiques: la déposition chimique de la phase des vapeurs (CVD) et la pyrolyse des polymères précurseurs. De cette manière, des vitesses de déposition accrues sur de larges surfaces complexes (caractéristiques pour la route polymérique) deviennent accessibles alors que la possibilité de structuralisation de couches formées à partir des molécules qui gardent leur mobilité sur la surface de déposition (caractéristique pour CVD) est maintenue. Malgré sa nouveauté, des résultats remarquables ont déjà été obtenus dans la …