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Caractérisation de l'émission UV de plasma "froid"
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Les plasmas "froids" à basse pression (10⁻² - 10 Torr) sont utilisés depuis longtemps dans des procédés de fabrication de microcircuits électroniques et pour la modification de surfaces polymériques. Consistant en un mélange complexe de particules chargées et neutres; cependant, ils sont aussi une source importante de radiation électromagnétique couvrant une large bande spectrale. Les radiations de faibles longueurs d'onde, particulièrement dans le domaine UV-VOU, sont suffisamment énergiques pour causer des réactions photochimiques. Nous avons mis au point un système monochromatique permettant de détecter l'énergie électromagnétique émise dans la gamme UV-VIS (15 nm < λ < 900 nm), système qui …

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Caractérisation de l'émission UV de plasma "froid"
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Les plasmas "froids" à basse pression (10⁻² - 10 Torr) sont utilisés depuis longtemps dans des procédés de fabrication de microcircuits électroniques et pour la modification de surfaces polymériques. Consistant en un mélange complexe de particules chargées et neutres; cependant, ils sont aussi une source importante de radiation électromagnétique couvrant une large bande spectrale. Les radiations de faibles longueurs d'onde, particulièrement dans le domaine UV-VOU, sont suffisamment énergiques pour causer des réactions photochimiques. Nous avons mis au point un système monochromatique permettant de détecter l'énergie électromagnétique émise dans la gamme UV-VIS (15 nm < λ < 900 nm), système qui …

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