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Caractérisation des couches interfaciales dans des puits quantiques InP/GaxIn1-XAsyP1-y
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Les dispositifs électroniques et opto-électroniques modernes sont formés le plus souvent d'un empilement de couches semiconductrices très minces (quelques nanomètres ou dizaines de nanomètres). Les propriétés de ces dispositifs sont donc très sensibles à la qualité des interfaces entre les couches de différents matériaux. Les alliages formés à partir de InP et GaAs sont la base de l'opto-électronique pour les longueurs d'onde autour de 1.3 et 1.55 μm. Dans ce travail, nous avons étudié des puits quantiques InP/GaxIn1-xAsyP1-y pour caractériser leurs interfaces en utilisant la diffraction des rayons X et la photoluminescence. Nous observons la présence de couches interfaciales dont …

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